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J-GLOBAL ID：201802255552235231   整理番号：18A0633853

反応性ガスクラスターインジェクションを用いた斜め2方向エッチングによる3D構造の作成

著者 (7件)： 瀬木利夫 (京大 大学院) ,  山本洋揮 (量研) ,  古澤孝弘 (大阪大 産科研) ,  荘所正 (岩谷産業) ,  小池国彦 (岩谷産業) ,  青木学聡 (京大 メディアセ) ,  松尾二郎 (京大 大学院)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 65th  ページ： ROMBUNNO.20a-B403-6  発行年： 2018年03月05日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： イオンビーム ,  クラスタイオン ,  *イオン注入 ,  *イオンエッチング ,  構造形成 ,  電子顕微鏡観察 ,  クラスタ分子 ,  ガスクラスターイオンビーム
準シソーラス用語： *三次元構造

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 反応性ガス ,  2方向 ,  エッチング ,  3D