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J-GLOBAL ID：201802283138429991   整理番号：18A0912222

紫外線照射とハイブリッドクラスタゲルを用いた機能性酸化物薄膜の直接パターニング法の開発とその薄膜トランジスタへの応用

Development of a direct patterning method for functional oxide thin films using ultraviolet irradiation and hybrid-cluster gels and its application to thin-film transistor fabrication

著者 (3件)： YOSHIMOTO Yuuki (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol. (JAIST), Ishikawa, JPN) ,  LI Jinwang (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol. (JAIST), Ishikawa, JPN) ,  SHIMODA Tatsuya (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol. (JAIST), Ishikawa, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 11  号： 4  ページ： 046501.1-046501.4  発行年： 2018年04月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 溶液-固体変換プロセスにはゲル状態が存在する。著者らは,ゲルに紫外線(UV)を照射することによって凝固が促進され得ることを見出した。本研究では,真空系を用いない,あるいはフォトレジスト材料を用いない,UV照射によりゲルに凝固させるパターニング方法が提案された。酸化インジウムゲル,酸化インジウムガリウムゲル,酸化ランタンジルコニウムゲル,および酸化ランタンルテニウムゲルを,著者らの技術を用いてうまくパターン化された。また,著者らの新しいパターニング方法を用いて酸化物薄膜トランジスタを作製し,良好な動作が得られた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *紫外線照射 ,  *ゲル ,  *クラスタ ,  *薄膜 ,  *パターン形成 ,  *薄膜トランジスタ ,  凝固 ,  真空 ,  フォトレジスト ,  酸化インジウム ,  ガリウム化合物 ,  ジルコニウム酸塩 ,  ランタン化合物 ,  ルテニウム化合物
準シソーラス用語： *酸化物薄膜 ,  酸化インジウム・ガリウム・亜鉛 ,  酸化ランタンジルコニウム ,  機能性薄膜

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  応用物理化学的操作・装置  (XE03000E) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

引用文献 (10件)：

• M. Kim, H. S. Kim, Y.-G. Ha, J. He, M. G. Kanatzidis, A. Facchetti, and T. J. Marks, J. Am. Chem. Soc. 132, 10352 (2010).
• D. H. Lee, Y. J. Chang, G. S. Herman, and C. H. Chang, Adv. Mater. 19, 843 (2007).
• K. K. Banger, Y. Yamashita, K. Mori, R. L. Peterson, T. Leedham, J. Rickard, and H. Sirringhaus, Nat. Mater. 10, 45 (2011).
• T. Kaneda, D. Hirose, T. Miyasako, P. T. Tue, Y. Murakami, S. Kohara, J. Li, T. Mitani, E. Tokumitu, and T. Shimoda, J. Mater. Chem. C 2, 40 (2014).
• K. Umeda, T. Miyasako, A. Sugiyama, A. Tanaka, M. Suzuki, E. Tokumitsu, and T. Shimoda, J. Appl. Phys. 113, 184509 (2013).

タイトルに関連する用語 (7件)： 紫外線照射 ,  機能性 ,  酸化物薄膜 ,  パターニング ,  開発 ,  薄膜トランジスタ ,  応用