特許
J-GLOBAL ID：201803000107531535
基材表面の処理方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 久野 琢也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-522291
特許番号：特許第6227131号
出願日： 2013年07月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基材(10)の基材表面(10s)を、基材表面(10s)または基材表面(10s)上に存在している膜(17)に液体(19)を塗布して処理するための方法であって、ここで、基材表面(10s)に塗布された液体(19)を、基材表面(10s)の上方および/または下方に配置された加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)によって加熱し、ここで、加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)を上昇および下降させることによって、液体(19)の温度TRを一定に保ち、基材(10)は、塗布された液体(19)のための床を形成し、基材ホルダー(4)のリングセクション(4s)が、液体(19)の流出を阻止する、前記方法において、リングセクション(4s)は、基材(10)と一緒になって、処理の間に液体(19)を収容するための槽を形成することを特徴とする前記方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
H01L 21/30 572 B
, H01L 21/304 642 A
, H01L 21/304 643 A
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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