細長い領域のモニタリングを用いるインシトゥモニタシステム

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：園田吉隆 , 小林義教
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-229641
公開番号（公開出願番号）：特開2014-096585
特許番号：特許第6297301号
出願日： 2013年11月05日
公開日（公表日）： 2014年05月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を化学機械研磨する方法であって、研磨ステーションにおいて前記基板上の層を研磨することと、研磨の間前記研磨ステーションにおいてインシトゥモニタシステムにより前記層をモニタすることであり、前記インシトゥモニタシステムが細長い領域をモニタし、測定信号を発生する、モニタすることと、前記細長い領域の一次軸と、前記基板のエッジの接線との間の角度を計算することと、前記角度に基づいて前記測定信号を変更して変更信号を発生することと、前記変更信号に基づいて、研磨終点を検出することおよび研磨パラメータを変更することの少なくとも一方とを含む方法。

IPC (1件)：