特許
J-GLOBAL ID：201803000809322810
フォトレジストに使用するための熱酸発生剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-221922
公開番号（公開出願番号）：特開2014-098897
特許番号：特許第6334890号
出願日： 2013年10月25日
公開日（公表日）： 2014年05月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (a)酸不安定基を含む樹脂、
(b)光酸発生剤、
(c)熱酸発生剤、および、
(d)前記熱酸発生剤由来の酸と比較して塩基性成分由来の塩基が過剰の当量となるように存在する非ポリマーのポリアミン塩基性成分
を含む、フォトレジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
G03F 7/004 501
, G03F 7/039 601
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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