プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：三浦邦夫 , 三浦邦陽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-056383
公開番号（公開出願番号）：特開2018-160353
出願日： 2017年03月22日
公開日（公表日）： 2018年10月11日
要約：

【課題】プラズマ処理時に被処理物に不純物が混入することが無く、高純度なプラズマ処理を行なうことができるプラズマ処理装置を得ること。【解決手段】内部に放電空間(14、24)を備えるプラズマ処理容器(10、20)と、上記プラズマ処理容器を介在させて対向した一対の電極(13aと15、13a’と15、23と23、または23’と23’’)とを有し、上記放電空間に設けられた被処理物をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、上記放電空間に一対の電極が露出しないように、上記放電空間は上記プラズマ処理容器によって覆われているプラズマ処理装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部に放電空間を備えるプラズマ処理容器と、上記プラズマ処理容器を介在させて対向した一対の電極とを有し、上記放電空間に設けられた被処理物をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、上記放電空間に一対の電極が露出しないように、上記放電空間は上記プラズマ処理容器によって覆われていること、を特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (1件)：

H05H 1/24

FI (1件)：

H05H1/24

Fターム (16件)：

2G084AA07 , 2G084BB01 , 2G084BB06 , 2G084BB07 , 2G084BB11 , 2G084BB23 , 2G084BB24 , 2G084CC11 , 2G084CC34 , 2G084DD01 , 2G084DD12 , 2G084DD13 , 2G084DD14 , 2G084DD17 , 2G084DD22 , 2G084DD64

引用特許：

審査官引用 (6件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-197515 出願人：学校法人中村産業学園
特許第6006393号
放電ランプ
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-179652 出願人：株式会社オーク製作所

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