特許
J-GLOBAL ID：201003044206981788
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
有吉 修一朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-197515
公開番号（公開出願番号）：特開2010-029830
出願日： 2008年07月31日
公開日（公表日）： 2010年02月12日
要約：
【課題】本発明は、少量から大量の粉体を均一に大気圧グロープラズマ処理して、その表面に有用な官能基を付与するプラズマ処理装置を提供することを目的とするものである。【解決手段】本発明は、中心電極2と、中心電極2と所定の空隙部5を介して配置された筒状の周辺電極3とを有する放電容器1と、中心電極2表面若しくは周辺電極3表面の少なくとも一方に設けられた誘電体4と、放電容器1の一端側に設けられ、空隙部5に流体を注入可能に構成された流体注入手段と、放電容器1の他端側に設けられ、空隙部5から流体を排出可能に構成された流体排出手段と、中心電極2と周辺電極3との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、中心電極を回転中心として放電容器を回転せしめる回転手段とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
中心電極と、該中心電極と所定の空隙部を介して配置された筒状の周辺電極とを有する放電容器と、
前記中心電極表面若しくは前記周辺電極表面の少なくとも一方に設けられた誘電体と、
前記放電容器の一端側に設けられ、前記空隙部に流体を注入可能に構成された流体注入手段と、
前記放電容器の他端側に設けられ、前記空隙部から流体を排出可能に構成された流体排出手段と、
前記中心電極と前記周辺電極との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、前記中心電極を回転の中心として前記放電容器を回転せしめる回転手段とを備える
プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4G075AA27
, 4G075BA05
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 4G075EB41
, 4G075EC09
, 4G075EC21
, 4G075ED01
, 4G075FA08
, 4G075FB01
, 4G075FB04
, 4G075FB06
, 4G075FB12
, 4G075FC15
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
全件表示
前のページに戻る
