放射装置及び放射装置を用いた処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-138844
公開番号（公開出願番号）：特開2018-008425
出願日： 2016年07月13日
公開日（公表日）： 2018年01月18日
要約：

【課題】急峻な波長選択性を有する放射装置及び当該放射装置を用いた処理装置を提供する。【解決手段】放射装置10は、発熱源20、24と、表面側にメタマテリアル構造層14を有するメタマテリアル構造物12と、を備える。メタマテリアル構造層14は、その表面に発熱源20、24から放射されたふく射エネルギーが入射するように配置されており、かつ、メタマテリアル構造層14の表面で反射されるふく射エネルギーが特定の波長領域を除いた波長領域の放射エネルギーとなるように構成されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

発熱源と、表面側にメタマテリアル構造層を有するメタマテリアル構造物と、を備えており、前記メタマテリアル構造層は、その表面に前記発熱源から放射されたふく射エネルギーが入射するように配置されており、かつ、当該メタマテリアル構造層の表面で反射されるふく射エネルギーが特定の波長領域を除いた波長領域のふく射エネルギーとなるように構成されている、放射装置。

IPC (1件)：

B29C 35/02

FI (1件)：

B29C35/02

Fターム (11件)：

4F203AA36 , 4F203AK04 , 4F203AR12 , 4F203AR20 , 4F203DA12 , 4F203DB01 , 4F203DC11 , 4F203DC27 , 4F203DL19 , 4F203DM13 , 4F203DM23

引用特許：

出願人引用 (6件)

フラッシュアニール
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-514597 出願人：ウェーハマスターズ・インコーポレイテッド
光デバイス
公報種別：公表公報出願番号：特願2014-561502 出願人：ラムダガードテクノロジーズリミテッド
紫外線硬化型水性樹脂用の硬化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-194566 出願人：岩崎電気株式会社

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審査官引用 (6件)

フラッシュアニール
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-514597 出願人：ウェーハマスターズ・インコーポレイテッド
光デバイス
公報種別：公表公報出願番号：特願2014-561502 出願人：ラムダガードテクノロジーズリミテッド
紫外線硬化型水性樹脂用の硬化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-194566 出願人：岩崎電気株式会社

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