特許
J-GLOBAL ID：201803004744764140

多数の光ヘッドからのスペクトルの収集

発明者：
デーヴィッド, ジェフリー ドリュー

デーヴィッド, ジェフリー ドリュー について

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スウェデク, ボグスロー エー.

スウェデク, ボグスロー エー. について

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ベンヴェニュ, ドミニク ジェー.

ベンヴェニュ, ドミニク ジェー. について

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ダンダパーニ, シヴァクマール

ダンダパーニ, シヴァクマール について


出願人/特許権者：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-000046
公開番号（公開出願番号）：特開2018-099772
出願日： 2018年01月04日
公開日（公表日）： 2018年06月28日
要約：
【課題】所望の精度で研磨終点を決定できる研磨装置を提供する。【解決手段】複数の光学開孔を有する研磨パッド110を保持するためのプラテン120と、基板10を研磨パッドに対して保持するためのキャリアヘッド140と、キャリアヘッドとプラテンとの間の相対運動を生成するためのモータ121と、光学モニタシステム160とを含み、光学モニタシステムは、少なくとも1つの光源と、共通検出器と、少なくとも1つの光源からプラテンの複数の分離した位置の各々に光を導き、基板が前記各位置の上を通るときに複数の分離した位置の各位置から基板に光を導き、基板が前記各位置の上を通るときに基板から反射光を受け取り、複数の分離した位置の各々から共通検出器に反射光を導くように構成された光学アセンブリとを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の光学開孔を有する研磨パッドを保持するためのプラテンと、 基板を前記研磨パッドに対して保持するためのキャリアヘッドと、 前記キャリアヘッドと前記プラテンとの間の相対運動を生成するためのモータと、 光学モニタシステムとを含み、前記光学モニタシステムが、 少なくとも1つの光源と、 共通検出器と、 前記少なくとも1つの光源から前記プラテンの複数の分離した位置の各々に光を導き、前記基板が前記各位置の上を通るときに前記複数の分離した位置の各位置から前記基板に光を導き、前記基板が前記各位置の上を通るときに前記基板から反射光を受け取り、前記複数の分離した位置の各々から前記共通検出器に前記反射光を導くように構成された光学アセンブリと を含む、研磨装置。
IPC (3件)：
B24B 37/013 ,  H01L 21/304 ,  B24B 49/12
FI (3件)：
B24B37/013 ,  H01L21/304 622S ,  B24B49/12
Fターム (25件)：
3C034AA07 ,  3C034BB93 ,  3C034CA05 ,  3C034CA22 ,  3C034CB14 ,  3C034DD10 ,  3C158AA07 ,  3C158AC02 ,  3C158BA01 ,  3C158BA09 ,  3C158BC03 ,  3C158CB03 ,  3C158DA12 ,  3C158DA17 ,  3C158EA11 ,  3C158EB01 ,  5F057AA20 ,  5F057BA11 ,  5F057BB03 ,  5F057CA12 ,  5F057DA03 ,  5F057EB11 ,  5F057GA13 ,  5F057GB02 ,  5F057GB13
引用特許：
審査官引用 (4件)
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