分析システムのための装置、該装置を有する分析システム及び該装置を使用する方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人M&Sパートナーズ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-537405
特許番号：特許第6223460号
出願日： 2013年10月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】媒体の空間オフセット分析を実行する場合に使用する装置であって、該装置は、複屈折材料を含む複屈折要素を有し、前記複屈折要素は、検出器に隣接する第1の側及び前記媒体に隣接する第2の側を有し、前記複屈折要素は、前記第1の側に入射する第1偏光の一次放射のビームに第1の操作をし、前記第1の操作は、前記一次放射のビームを前記媒体の第1位置に向けさせ、前記複屈折要素は更に、前記媒体の第2位置から前記第2の側に入射する第2偏光の二次放射のビームの少なくとも一部に第2の操作をし、前記二次放射は、前記一次放射による前記媒体の照射に基づき、前記第2の操作は、前記二次放射のビームの少なくとも一部を前記検出器に向けさせ、前記第2位置は、前記第1位置とは少なくとも部分的に異なり、前記第1の操作の効果は、前記第1偏光が前記第2偏光とは異なることにより前記第2の操作の効果とは異なる、装置。

IPC (3件)：

G01N 21/65 ( 200 6.01) , G01N 21/64 ( 200 6.01) , G01N 21/21 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G01N 21/65 , G01N 21/64 Z , G01N 21/21

引用特許：

出願人引用 (16件)

複屈折光学系
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-504528 出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
偏光干渉顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-102705 出願人：ライカマイクロシステムスツェーエムエスゲーエムベーハー
組織病巣の特徴付けおよびマッピングのための方法およびシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-115094 出願人：フォースフォトニクスリミテッド

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