特許
J-GLOBAL ID：201803005848106531

基板乾燥装置

発明者：
坂下 健司

坂下 健司 について

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磯 明典

磯 明典 について

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西部 幸伸

西部 幸伸 について

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高原 竜平

高原 竜平 について

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濱田 崇広

濱田 崇広 について

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手島 理恵

手島 理恵 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-031759
公開番号（公開出願番号）：特開2018-107466
出願日： 2018年02月26日
公開日（公表日）： 2018年07月05日
要約：
【課題】エアーナイフによる乾燥処理後に基板上に残留する液滴の排除を可能とする。【解決手段】洗浄後の搬送される基板11にエアーナイフ33、34から気体を、基板11の面に対して垂直方向から基板11の搬送方向14下流側に傾斜された角度で噴射して、基板11を乾燥させる基板乾燥装置であって、エアーナイフ33、34が配置された位置よりも基板11の搬送方向14下流側に、基板11の少なくとも一方の面に向けて気体を噴射するエアーブローノズル35、36を有し、エアーブローノズル35、36は、エアーナイフ33、34とは異なる角度で気体を基板11に噴射する構成となる。【選択図】図2A
請求項（抜粋）：
洗浄後の搬送される基板にエアーナイフから気体を、当該基板の面に対して垂直方向から該基板の搬送方向下流側に傾斜された角度で噴射して、前記基板を乾燥させる基板乾燥装置であって、 前記エアーナイフが配置された位置よりも前記基板の搬送方向下流側に、前記基板の少なくとも一方の面に向けて気体を噴射する気体噴射手段を有し、 前記気体噴射手段は、前記エアーナイフとは異なる角度で気体を前記基板に噴射することを特徴とする基板乾燥装置。
IPC (7件)：
H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 1/02 ,  B08B 1/04 ,  B08B 5/02 ,  F26B 5/00 ,  F26B 15/12
FI (8件)：
H01L21/304 651L ,  H01L21/304 651G ,  B08B3/02 C ,  B08B1/02 ,  B08B1/04 ,  B08B5/02 Z ,  F26B5/00 ,  F26B15/12 Z
Fターム (54件)：
3B116AA02 ,  3B116AB14 ,  3B116AB42 ,  3B116BA02 ,  3B116BA15 ,  3B116BA24 ,  3B116BB88 ,  3B116BB90 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201AB42 ,  3B201BA02 ,  3B201BA15 ,  3B201BB24 ,  3B201BB88 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3L113AA03 ,  3L113AB10 ,  3L113AC31 ,  3L113AC48 ,  3L113BA34 ,  3L113DA04 ,  5F157AA02 ,  5F157AA17 ,  5F157AA71 ,  5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB82 ,  5F157AB94 ,  5F157AC03 ,  5F157AC56 ,  5F157BA02 ,  5F157BA14 ,  5F157BA31 ,  5F157BB13 ,  5F157BB22 ,  5F157BB24 ,  5F157BG00 ,  5F157BG85 ,  5F157CB03 ,  5F157CB15 ,  5F157CB16 ,  5F157DB32 ,  5F157DB51
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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