特許
J-GLOBAL ID：201803006645227399

ウェーハの洗浄方法

発明者：
若杉 勝郎

若杉 勝郎 について

, 
小淵 俊也

小淵 俊也 について

, 
兼子 優起

兼子 優起 について


出願人/特許権者：
株式会社SUMCO

株式会社SUMCO について


代理人 (2件)： 杉村 憲司 ,  川原 敬祐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-253936
公開番号（公開出願番号）：特開2018-107338
出願日： 2016年12月27日
公開日（公表日）： 2018年07月05日
要約：
【課題】オゾン水に起因する段差欠陥がウェーハ上に形成されるのを抑制することができるウェーハの洗浄方法を提供する。【解決手段】本発明は、ウェーハを回転させつつ、該ウェーハの表面上に洗浄液を供給するウェーハの洗浄方法であって、前記ウェーハ表面上にフッ酸の供給を開始し、前記フッ酸の供給を停止する前、又は停止と同時に、純水の供給を開始し、前記フッ酸の供給を停止した以後、前記純水の供給を停止する前に、オゾン水の供給を開始して、前記ウェーハ表面上に純水及びオゾン水を同時に供給する期間を設け、その後前記純水の供給を停止して、前記ウェーハ表面上にオゾン水のみを供給することを特徴とする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
ウェーハを回転させつつ、該ウェーハの表面上に洗浄液を供給するウェーハの洗浄方法であって、 前記ウェーハ表面上にフッ酸の供給を開始し、 前記フッ酸の供給を停止する前、又は停止と同時に、純水の供給を開始し、 前記フッ酸の供給を停止した以後、前記純水の供給を停止する前に、オゾン水の供給を開始して、前記ウェーハ表面上に純水及びオゾン水を同時に供給する期間を設け、 その後前記純水の供給を停止して、前記ウェーハ表面上にオゾン水のみを供給する ことを特徴とするウェーハの洗浄方法。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (2件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647Z
Fターム (24件)：
5F157AA62 ,  5F157AA73 ,  5F157AA82 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157BB22 ,  5F157BC03 ,  5F157BC53 ,  5F157BD33 ,  5F157BE12 ,  5F157BE46 ,  5F157CB01 ,  5F157CB13 ,  5F157CB32 ,  5F157CE10 ,  5F157DA21 ,  5F157DB02 ,  5F157DB03 ,  5F157DB18 ,  5F157DB37 ,  5F157DB57
引用特許：
審査官引用 (8件)
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