特許
J-GLOBAL ID:201803008541182248

ガス分離装置及びガス分離方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山田 茂樹
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-158377
公開番号(公開出願番号):特開2015-027654
特許番号:特許第6267451号
出願日: 2013年07月31日
公開日(公表日): 2015年02月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】3つ以上の分離膜モジュールが直列に連結された構造を有するガス分離装置であって、 前記各分離膜モジュールが、第1ガス供給口及び第1ガス排出口を有する第1ガス流路と、第2ガス排出口を有する第2ガス流路とが、親水性ポリマーを含むガス分離膜で隔てられた構造を有し、 前記ガス分離膜が、親水性ポリマー膜と多孔膜とが積層された構造を有し、少なくとも一つの酸性ガスを選択的に透過させるものであり、 前記酸性ガスが、炭酸ガス、硫化水素、硫化カルボニル、硫黄酸化物(SOx)、および窒素酸化物(NOx)から選択される1種又は2種以上であり、 連続する2つの分離膜モジュールのそれぞれにおいて、ガス流動方向上流側の分離膜モジュールの第1ガス排出口とガス流動方向下流側の分離膜モジュールの第1ガス供給口とが連結し、 前記ガス流動方向上流側の分離膜モジュールの第1ガス排出口とガス流動方向下流側の分離膜モジュールの第1ガス供給口との連結部分のうち、ガスの相対湿度が50%RH以下となる少なくとも1箇所に冷却機構が備えられたことを特徴とするガス分離装置。
IPC (4件):
B01D 53/22 ( 200 6.01) ,  B01D 69/12 ( 200 6.01) ,  B01D 71/38 ( 200 6.01) ,  B01D 71/40 ( 200 6.01)
FI (4件):
B01D 53/22 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/38 ,  B01D 71/40
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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