特許
J-GLOBAL ID：201803008991876258

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者：
土屋 純一

土屋 純一 について

, 
岩澤 裕太

岩澤 裕太 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-241247
公開番号（公開出願番号）：特開2015-014773
特許番号：特許第6249735号
出願日： 2013年11月21日
公開日（公表日）： 2015年01月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、 下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)と、 酸の作用により極性が増大する酸分解性基のうち、単環式基を含む基、又は鎖状の基を含む構成単位(a1)と、 酸の作用により極性が増大する酸分解性基のうち、多環式基を含む基を含む構成単位(a1’)と、 ラクトン含有単環式基を含む構成単位(a2)と、 を有する高分子化合物(A1)を含有し、 該高分子化合物(A1)を構成する全構成単位の合計に対する前記構成単位(a1)の割合が、前記構成単位(a1’)の割合以上であることを特徴とするレジスト組成物。 [式(a0-1)中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。R1は一般式(a2-r-5)で表されるラクトン含有多環式基である。R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基である。L1はエステル結合である。n1は1〜3の整数である。式(a2-r-5)中、Ra’21は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、-COOR0”、-OC(=O)R0”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり;R0”は水素原子、アルキル基又はラクトン含有多環式基である。式中の「*」は結合手であることを示す。]
IPC (4件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/32 ( 200 6.01) ,  G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  C08F 220/28 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/32 ,  G03F 7/038 601 ,  C08F 220/28
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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