特許

J-GLOBAL ID：201803010220187366

露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 柴崎 祐一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-051879
公開番号（公開出願番号）：特開2018-112752
出願日： 2018年03月20日
公開日（公表日）： 2018年07月19日
要約：

【課題】走査露光により、ウエハにマスクのパターンを精度良く転写する。【解決手段】制御装置は、ウエハWの露光動作において、Y軸方向を走査方向として照明光に対してパターンが形成されたマスクとウエハWをそれぞれ相対移動する走査露光が行われるとともに、ヘッド(64、66)に起因して生じるウエハWを保持するウエハステージWSTの位置を計測する第2エンコーダシステム(64、66、39Y1、39Y2、39X1、39X2)の計測誤差が補償されるように、前記計測誤差を補償するための補正情報と、マスクを保持するマスクステージの位置を計測する第1エンコーダシステム及び第2エンコーダシステムの計測情報と、に基づいてマスクステージの駆動系及びウエハステージWSTの駆動系を制御する。【選択図】図22

請求項（抜粋）：

投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光装置であって、 前記投影光学系を支持するフレーム部材と、 前記投影光学系の上方に配置される、前記照明光で照明されるマスクを保持する第1ステージと、前記第1ステージを駆動する第1モータを含む第1駆動系と、有し、少なくとも前記投影光学系の光軸と直交する所定面内の第1方向に関して前記第1ステージを移動する第1ステージシステムと、 前記投影光学系の下方に配置される、前記基板を保持する第2ステージと、前記第2ステージを駆動する第2モータを含む第2駆動系と、を有し、少なくとも前記所定面内で互いに直交する前記第1方向および第2方向に関して前記第2ステージを移動する第2ステージシステムと、 前記第1、第2ステージの位置情報をそれぞれ計測する第1、第2エンコーダシステムを有する計測システムと、前記第2エンコーダシステムは、前記第2ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記第2ステージと対向するように前記フレーム部材に設けられ、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって前記第2ステージの位置情報を計測し、前記格子部は、前記所定面と平行な方向に関して周期的な反射型格子を有し、 前記基板の露光動作において、前記第1方向を走査方向として前記照明光に対して前記マスクと前記基板をそれぞれ相対移動する走査露光が行われるとともに、前記ヘッドに起因して生じる前記第2エンコーダシステムの計測誤差が補償されるように、前記計測誤差を補償するための補正情報と、前記第1、第2エンコーダシステムの計測情報とに基づいて前記第1、第2駆動系を制御する制御装置と、を備える露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  G01B 11/00 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

G03F7/20 521 ,  G03F7/20 501 ,  G01B11/00 C ,  H01L21/68 F

Fターム (56件)：

2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065CC17 ,  2F065DD02 ,  2F065DD03 ,  2F065DD11 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065FF16 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL41 ,  2F065MM02 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CD12 ,  2H197CD13 ,  2H197CD15 ,  2H197CD17 ,  2H197CD18 ,  2H197CD41 ,  2H197CD43 ,  2H197CD48 ,  2H197DB27 ,  2H197DC06 ,  2H197DC12 ,  2H197DC13 ,  2H197DC18 ,  2H197HA03 ,  2H197HA04 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10 ,  5F131AA02 ,  5F131BA13 ,  5F131CA38 ,  5F131CA69 ,  5F131EA02 ,  5F131EA14 ,  5F131EA22 ,  5F131EA23 ,  5F131EA24 ,  5F131EA25 ,  5F131EB01 ,  5F131KA03 ,  5F131KA16 ,  5F131KA40 ,  5F131KA47 ,  5F131KA63 ,  5F131KA72 ,  5F131KB12 ,  5F131KB32

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 露光装置、露光装置のコーティング、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造されたデバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-003343   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-060662   出願人：キヤノン株式会社
• 測長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-136449   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-020587   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-364265   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ