露光装置、露光装置のコーティング、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造されたデバイス

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-003343
公開番号（公開出願番号）：特開2006-196898
出願日： 2006年01月11日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：

【課題】本発明は、露光装置の各種部品に対する汚染物質の付着を軽減または解消するリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置の基盤テーブルに備えられるセンサーなどの露光装置の各種部品の少なくとも一部に、半導体、光触媒、および(または)金属酸化物を含むコーティングを付与することを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射ビームを供給するようになされた放射系と、所望のパターンに従って放射ビームをパターン形成するようになされたパターン形成装置と、基盤を支持するようになされた基盤テーブルと、パターン形成された放射ビームを基盤のターゲット箇所に投影するようになされた投影系とを含み、基盤テーブルの少なくとも一部がコーティングで被覆され、コーティングは金属酸化物、または光触媒、または半導体、またはそれらのいずれかの組合せを含んでなる露光装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 515G , H01L21/30 503G

Fターム (6件)：

5F046BA04 , 5F046CC01 , 5F046DA07 , 5F046DB10 , 5F046DB14 , 5F046DC12

引用特許：

審査官引用 (8件)

基板保持装置、基板搬送システム、露光装置、塗布装置およびデバイス製造方法ならびに基板保持部クリーニング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-119631 出願人：キヤノン株式会社
露光装置及び露光方法、デバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-412585 出願人：株式会社ニコン
露光装置、及びその部材の洗浄方法、露光装置のメンテナンス方法、メンテナンス機器、並びにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-177601 出願人：株式会社ニコン

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