特許
J-GLOBAL ID：200903052269175040
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 白江 克則
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-364265
公開番号（公開出願番号）：特開2006-179906
出願日： 2005年12月19日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：
【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び/又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び/又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置において、該位置決め装置が、第1のテーブルと第2のテーブルとを含み、
前記第1のテーブルが、前記第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムに接続され、前記第1のテーブルが、基板を保持するように構成され、
前記第2のテーブルが、前記第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に、前記第2のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムに接続され、前記第2のテーブルが、基板を保持するようには構成されていない位置決め装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515G
, H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046AA28
, 5F046CC01
, 5F046CC17
, 5F046DB01
, 5F046DB04
