特許
J-GLOBAL ID:201803012176994880
軸受、及び軸受の製造方法、並びに軸受の管理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人岡田国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-199428
公開番号(公開出願番号):特開2015-064092
特許番号:特許第6311255号
出願日: 2013年09月26日
公開日(公表日): 2015年04月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第一軌道輪と、第二軌道輪と、該第一軌道輪と第二軌道輪との間に介在される転動体とを有する軸受であって、
前記第一軌道輪と第二軌道輪とのいずれかの外面に、当該軸受の少なくとも二つの識別データが刻設され、
前記識別データの一方は、前記外面に刻設される複数の凹設、凸設、又は凹設及び凸設からなる刻設集合体により形成される文字であり、
前記識別データの他方は、前記文字を形成するための刻設集合体における2種類以上の凸設の高さ、2種類以上の凹設の深さ、2種類以上の凹設の深さ及び凸設の高さ、あるいは2種類以上の凹設の直径または凸設の直径により一品毎に異なって形成されるコードであることを特徴とする軸受。
IPC (5件):
F16C 33/64 ( 200 6.01)
, G05B 19/418 ( 200 6.01)
, F16C 19/00 ( 200 6.01)
, F16C 19/36 ( 200 6.01)
, B65G 61/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
F16C 33/64
, G05B 19/418 Z
, F16C 19/00
, F16C 19/36
, B65G 61/00 524
引用特許:
出願人引用 (7件)
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転がり軸受の被覆方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-012532
出願人:日本精工株式会社
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半導体装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-315944
出願人:エルピーダメモリ株式会社
-
アンギュラ玉軸受
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-168181
出願人:NTN株式会社
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審査官引用 (7件)
-
転がり軸受の被覆方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-012532
出願人:日本精工株式会社
-
半導体装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-315944
出願人:エルピーダメモリ株式会社
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アンギュラ玉軸受
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-168181
出願人:NTN株式会社
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