特許
J-GLOBAL ID：201803012308829280
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 松本 将尚
, 宮本 龍
, 飯田 雅人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-128162
公開番号（公開出願番号）：特開2018-004778
出願日： 2016年06月28日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
要約：
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される酸発生剤と、を含有することを特徴とする。式(b1)中、Rb1は、置換基として炭素数3以上のアルキル基を少なくとも1つ有する芳香族炭化水素基を表す。Yb1は、エステル結合(-C(=O)-O-又は-O-C(=O)-)を含む2価の連結基を表す。Vb1は、アルキレン基、フッ素化アルキレン基又は単結合を表す。mは1以上の整数であって、Mm+はm価の有機カチオンを表す。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、を含有し、
前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1)で表される化合物(B1)を含むことを特徴とする、レジスト組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, C07C 309/12
, C07C 381/12
, C07C 211/63
, C07D 333/76
, C07D 327/02
, G03F 7/20
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, C07C309/12
, C07C381/12
, C07C211/63
, C07D333/76
, C07D327/02
, G03F7/20 521
2H197AA12
, 2H197CA06
, 2H197CA08
, 2H197CA09
, 2H197CA10
, 2H197CE01
, 2H197CE10
, 2H197GA01
, 2H197HA03
, 2H197HA10
, 2H197JA22
, 2H225AF23P
, 2H225AF24P
, 2H225AF25P
, 2H225AF28P
, 2H225AF29P
, 2H225AF38P
, 2H225AF43P
, 2H225AF54P
, 2H225AF56P
, 2H225AF67P
, 2H225AF68P
, 2H225AF71P
, 2H225AF99P
, 2H225AH14
, 2H225AH16
, 2H225AH49
, 2H225AJ13
, 2H225AJ48
, 2H225AJ51
, 2H225AJ54
, 2H225AN38P
, 2H225AN39P
, 2H225BA01P
, 2H225BA26P
, 2H225CA12
, 2H225CB18
, 2H225CC03
, 2H225CC15
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB76
, 4H006AB92
, 4H006TN10
, 4H006TN30
, 4H006TN60
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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