特許
J-GLOBAL ID：201803012505827418
有機ハイドライド製造装置及び有機ハイドライドの製造方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
,
代理人 (1件)：
森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-222563
公開番号（公開出願番号）：特開2018-080361
出願日： 2016年11月15日
公開日（公表日）： 2018年05月24日
要約：
【課題】有機ハイドライドの製造効率を向上させる。【解決手段】有機ハイドライド製造装置10は、プロトン伝導性を有する電解質膜110と、電解質膜110の一方の側に設けられ、プロトンで被水素化物を水素化して有機ハイドライドを生成するためのカソード触媒層、及びカソード触媒層を収容するカソード室を有するカソード120と、電解質膜110の一方の側とは反対側に設けられ、水を酸化してプロトンを生成するためのアノード触媒層、及びアノード触媒層を収容するアノード室を有するアノード150と、電解質膜110を通過してアノード液に混入する被水素化物及び有機ハイドライドの少なくとも一方を除去するための所定のガスを、所定の位置においてアノード液に導入するガス導入部70とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プロトン伝導性を有する電解質膜と、
前記電解質膜の一方の側に設けられ、プロトンで被水素化物を水素化して有機ハイドライドを生成するためのカソード触媒層、及び前記カソード触媒層を収容するカソード室を有するカソードと、
前記電解質膜の前記一方の側とは反対側に設けられ、アノード液中の水を酸化してプロトンを生成するためのアノード触媒層、及び前記アノード触媒層を収容するアノード室を有するアノードと、
前記電解質膜を通過して前記アノード液に混入する前記被水素化物及び前記有機ハイドライドの少なくとも一方を除去するための所定のガスを、所定の位置において前記アノード液に導入するガス導入部と、
を備えることを特徴とする有機ハイドライド製造装置。
IPC (5件)：
C25B 9/00
, C25B 3/04
, C25B 9/10
, C25B 11/08
, C25B 15/08
C25B9/00 G
, C25B3/04
, C25B9/10
, C25B11/08 A
, C25B15/08 302
4K011AA15
, 4K011AA16
, 4K011AA26
, 4K011AA32
, 4K011BA04
, 4K011DA11
, 4K021AC02
, 4K021BA02
, 4K021BA11
, 4K021BB03
, 4K021BC03
, 4K021BC05
, 4K021CA10
, 4K021DB05
, 4K021DB19
, 4K021DB20
, 4K021DB31
, 4K021DB43
, 4K021DB53
, 4K021DC15
