プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：酒井宏明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-229547
公開番号（公開出願番号）：特開2015-090897
特許番号：特許第6261287号
出願日： 2013年11月05日
公開日（公表日）： 2015年05月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理基板を収容する減圧された収容室と、該収容室内に配置されて前記被処理基板を載置する冷却機構を内蔵した載置台と、前記被処理基板の周縁部を囲うように前記載置台に載置される環状のフォーカスリングとを備えたプラズマ処理装置であって、前記フォーカスリングを前記載置台に押圧する押圧手段が設けられており、前記フォーカスリングが、前記載置台と接触するリング状の下部部材と、該下部部材の上面に熱伝導性シリコーンシートを介して載置されるリング状の上部部材とで構成され、前記押圧手段が、前記下部部材を前記載置台にネジ止めにより締め付けるものであり、前記載置台と前記フォーカスリングとの間に、前記熱伝導性シリコーンシートを配置しており、前記熱伝導性シリコーンシートは、ポリオルガノシロキサン100重量部に対して熱伝導性粒子を100〜2000重量部含む熱伝導性シリコーンシートであって、前記熱伝導性シリコーンシートを縦38mm、横38mm、厚さ3mmの形状とし、直径70mmの濾紙に挟み、1kgの荷重を掛けた状態で70°C、1週間保持したときの液体成分のブリードアウト量が30mg以下であることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01) , C23C 16/458 ( 200 6.01) , C08L 83/04 ( 200 6.01) , C08K 3/00 ( 201 8.01) , C08J 5/18 ( 200 6.01) , C08G 77/50 ( 200 6.01) , C08K 5/5419 ( 200 6.01) , H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (9件)：

H01L 21/302 101 G , C23C 16/458 , C08L 83/04 , C08K 3/00 , C08J 5/18 CFH , C08G 77/50 , C08K 5/541 , H05H 1/46 M , H05H 1/46 A

引用特許：

出願人引用 (6件)

フォーカスリング及び基板載置システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-044345 出願人：東京エレクトロン株式会社, 電気化学工業株式会社
付加反応硬化型シリコーン組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-353798 出願人：モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社
特許第4514164号

全件表示

審査官引用 (5件)

フォーカスリング及び基板載置システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-044345 出願人：東京エレクトロン株式会社, 電気化学工業株式会社
付加反応硬化型シリコーン組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-353798 出願人：モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社
特許第4514164号

全件表示

前のページに戻る