特許
J-GLOBAL ID:201803017739907360
光学素子製造装置および光学素子製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 高柴 忠夫
, 増井 裕士
, 鈴木 史朗
, 橋本 宏之
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-239904
公開番号(公開出願番号):特開2015-098419
特許番号:特許第6292835号
出願日: 2013年11月20日
公開日(公表日): 2015年05月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】光学素材を収容する成形型組立体の内部の雰囲気を不活性ガス置換する不活性ガス置換室と、
前記不活性ガス置換室にて前記内部の雰囲気が不活性ガス置換され、前記不活性ガス置換室から移動された前記成形型組立体を収容し、前記成形型組立体によって前記光学素材から光学素子を成形する成形室と、
を備える光学素子製造装置であって、
前記不活性ガス置換室は、
前記成形型組立体を収容して、不活性ガス置換を行うためのチャンバーと、
該チャンバーに不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、
前記チャンバーの雰囲気を真空吸引する真空吸引部と、
前記不活性ガス供給部と前記真空吸引部との動作を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記真空吸引部によって真空吸引を行って前記チャンバー内の雰囲気を排出する間に、前記不活性ガス供給部によって前記不活性ガスを連続的に供給し、前記チャンバーが減圧された状態で前記真空吸引部を停止する制御を行う、
光学素子製造装置。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)