特許
J-GLOBAL ID：201803019837175265
効率が安定した光起電力素子の製造方法および製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 伊東 秀明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-522294
特許番号：特許第6266768号
出願日： 2013年09月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 効率が安定した光起電力素子を製造する方法で、次の工程を有する方法:
シリコン基板を供給すること;
前記シリコン基板の表面にエミッタ層を形成すること;
前記シリコン基板上に電気接点を形成すること;
さらに前記方法は安定化処理工程を有し、前記安定化処理工程は、
前記シリコン基板上に塗布された水素含有誘電体層から前記シリコン基板に水素を導入すること;および
前記シリコン基板が230°C以上の温度である間に、前記シリコン基板内に過剰少数電荷キャリアを生成することを有し、
前記過剰少数電荷キャリアは、波長が1180nm未満の光で、1kW/m2より大きい照明強度での照明によって生成され、
前記水素は、650°Cを上回る温度で導入され、その後の450°Cへの冷却は、550°Cを上回る温度で、少なくとも10°C/sの冷却速度の傾斜で行われる、ことを特徴とする。
IPC (2件)：
H01L 31/068 ( 201 2.01)
, H01L 31/18 ( 200 6.01)
H01L 31/06 300
, H01L 31/04 440
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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