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J-GLOBAL ID：201902222980925101   整理番号：19A2291273

水フリー溶媒を用いたミスト化学蒸着非晶質酸化アルミニウム膜の構造キャラクタリゼーション

Structural characterization of mist chemical vapor deposited amorphous aluminum oxide films using water-free solvent

著者 (5件)： YATABE Zenji (Priority Organization for Innovation and Excellence, Kumamoto University) ,  NISHIYAMA Koshi (Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University) ,  TSUDA Takaaki (Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University) ,  NAKAMURA Yusui (Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University) ,  NAKAMURA Yusui (Kumamoto Phoenics)
資料名： Journal of the Ceramic Society of Japan (Web)  (Journal of the Ceramic Society of Japan (Web))
巻： 127  号： 8  ページ： 590-593(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： U0409A  ISSN： 1348-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水を含まない溶媒を用いた400°Cでの大気圧溶液プロセスミスト化学蒸着(ミストCVD)法により,優れた品質の非晶質酸化アルミニウム(AlO_x)薄膜を得た。X線蛍光研究により,ミストCVDによるAlO_x膜の形成を検証した。X線回折,X線光電子分光法,偏光解析法及びX線反射率分析は,合成した非晶質AlO_x膜が6.5eVのバンドギャップ,1.64の屈折率及び2.78g/cm³の質量密度を有することを明らかにした。これらの値は,原子層蒸着法により蒸着した高品質非晶質Al₂O₃薄膜について報告された値と同程度である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  非晶質 ,  *酸化アルミニウム ,  *蒸着膜 ,  キャラクタリゼーション ,  化学合成 ,  バンドギャップ ,  屈折率 ,  密度 ,  X線光電子分光法 ,  偏光解析法 ,  溶媒
準シソーラス用語： *ミストCVD

著者キーワード (3件)： ミスト化学蒸着 ,  酸化アルミニウム ,  バンドギャップ

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (22件)：

• 1) Z. Yatabe, J. T. Asubar and T. Hashizume, J. Phys. D Appl. Phys., 49, 393001 (2016).
• 2) G. He, X. Wang, M. Oshima and Y. Shimogaki, Jpn. J. Appl. Phys., 49, 031502 (2010).
• 3) Y. Xiang, C. Zhou, E. Jia and W. Wang, Nanoscale Res. Lett., 10, 137 (2015).
• 4) K. Yoshitsugu, M. Horita, Y. Ishikawa and Y. Uraoka, Phys. Status Solidi C, 10, 1426-1429 (2013).
• 5) S. K. Kim, S. W. Lee, C. S. Hwang, Y.-S. Min, J. Y. Won and J. Jeong, J. Electrochem. Soc., 153, F69-F76 (2006).

タイトルに関連する用語 (8件)： 水 ,  溶媒 ,  ミスト ,  化学蒸着 ,  非晶質 ,  酸化 ,  アルミニウム膜 ,  キャラクタリゼーション