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J-GLOBAL ID：201902236597250846   整理番号：19A2619200

質量分離有機金属分子イオンビーム堆積法のストイキオメトリ成膜への応用

著者 (5件)： 吉村智 (大阪大 大学院) ,  杉本敏司 (大阪大 大学院) ,  竹内孝江 (奈良女大) ,  村井健介 (産業技術総合研) ,  木内正人 (産業技術総合研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 80th  ページ： ROMBUNNO.20a-E306-11  発行年： 2019年09月04日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 炭化ケイ素、酸化ケイ素、窒化ケイ素などの成膜においては、シランを主原料として用いる。シランは危険なため、比較的安全に扱える液体原料、ヘキサメチルジシラン、ヘキサメチルジシロキサン、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)、ヘキサメチルジシラザン...【本文一部表示】

シソーラス用語： *MOMBE ,  *化学組成 ,  イオン源 ,  *シラン誘導体 ,  *有機ケイ素化合物 ,  炭化ケイ素 ,  窒素 ,  含有合金
準シソーラス用語： *有機金属分子線エピタキシー ,  *ストイキオメトリィ組成 ,  *有機シラン ,  SiC

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

物質索引 (1件)： ヘキサメチルジシラン

タイトルに関連する用語 (7件)： 有機金属 ,  分子イオン ,  ビーム ,  堆積 ,  ストイキオメトリ ,  成膜 ,  応用