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J-GLOBAL ID：201902239270402298   整理番号：19A2157246

ミスト化学蒸着アルミニウムチタン酸化物膜の合成とキャラクタリゼーション

Synthesis and characterization of mist chemical vapor deposited aluminum titanium oxide films

著者 (6件)： YATABE Zenji (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  NISHIYAMA Koshi (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  TSUDA Takaaki (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  NISHIMURA Kazuki (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  NAKAMURA Yusui (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  NAKAMURA Yusui (Kumamoto Phoenics, Kumamoto, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58  号： 7  ページ： 070905.1-070905.4  発行年： 2019年07月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Al₂O₃とTiO₂前駆体を利用して,魅力的high-κ誘電体材料であるアルミニウム酸化チタン(Al_1-xTi_xO_y,Al₂O₃とTiO₂の合金)を,ミスト化学蒸着によって合成した。X線回折評価は,400°Cで蒸着したAl_1-xTi_xO_y(0<x<0.72)膜が非晶質相構造を有することを明らかにした。Al_1-xTi_xO_y膜のバンドギャップはTi組成の増加と共に減少することが分かった。さらに,Al₂O₃とTiO₂膜の得られた屈折率,質量密度,およびバンドギャップはすべて,原子層蒸着によって蒸着した高品質Al₂O₃とTiO₂膜について報告されたものと同等であった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *アルミニウム化合物 ,  *チタン化合物 ,  *酸化膜 ,  *誘電体薄膜 ,  X線回折 ,  構造 ,  バンドギャップ ,  屈折率 ,  密度
準シソーラス用語： *ミストCVD法 ,  *酸化物膜 ,  原子層蒸着 ,  *high-k膜 ,  非晶質構造 ,  質量密度

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  誘電体一般  (BM05010F)

引用文献 (36件)：

• J. Robertson, Rep. Prog. Phys. 69, 327 (2006).
• T. Hashizume, S. Ootomo, T. Inagaki, and H. Hasegawa, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 1828 (2003).
• O. Aucielloa, W. Fan, B. Kabius, S. Saha, J. A. Carlisle, R. P. H. Chang, C. Lopez, E. A. Irene, and R. A. Baragiola, Appl. Phys. Lett. 86, 042904 (2005).
• L. Shi, Y. D. Xia, B. Xu, J. Yin, and Z. G. Liu, J. Appl. Phys. 101, 034102 (2007).
• I. Jõgi, K. Kukli, M. Kemell, M. Ritala, and M. Leskelä, J. Appl. Phys. 102, 114114 (2007).

タイトルに関連する用語 (5件)： ミスト ,  化学蒸着 ,  アルミニウムチタン ,  酸化物膜 ,  キャラクタリゼーション