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J-GLOBAL ID：201902268646944693   整理番号：19A2265254

C₂F₄のオンサイト生成に向けた準大気圧プラズマによるCF₄ガス改質特性の評価

著者 (6件)： 田中領 (大阪大 大学院工学研究科) ,  田中智之 (大阪大 大学院工学研究科) ,  木倉丈 (大阪大 大学院工学研究科) ,  垣内弘章 (大阪大 大学院工学研究科) ,  安武潔 (大阪大 大学院工学研究科) ,  大参宏昌 (大阪大 大学院工学研究科)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2019  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.O07  発行年： 2019年08月20日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： C₂F₄ガスは,フルオロカーボン薄膜の成膜プリカーサ,ならびにドライエッチングにおけるエッチャントガスとして幅広い利用が期待されている。一方,強い重合性をもつC₂F₄ガスは高圧充填による供給ができないため,プロセスの現場に大量ストックすることが難しく,必要時,必要量だけオンサイト生成する技術が必要となっている。本研究では,最も廉価なPFCガスであるCF₄を用い準大気圧プラズマによるガス改質を試み,その特性を調査した。(著者抄録)

シソーラス用語： *大気プラズマ ,  *ペルフルオロカーボン ,  プラズマCVD ,  改質
準シソーラス用語： *PFC ,  改質ガス ,  *大気圧プラズマ

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (1件)：

• Seiji Samukawa, et. al. : Thin Solid Films 374, (2000) 235-242.

タイトルに関連する用語 (3件)： 大気圧プラズマ ,  改質 ,  評価