特許
J-GLOBAL ID：201903008874179551

基板処理装置

発明者：
南田 純也

南田 純也 について

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伊藤 達也

伊藤 達也 について

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豊田 康典

豊田 康典 について

, 
青木 大輔

青木 大輔 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (5件)： 永井 浩之 ,  中村 行孝 ,  佐藤 泰和 ,  朝倉 悟 ,  森 秀行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-225780
公開番号（公開出願番号）：特開2019-140379
出願日： 2018年11月30日
公開日（公表日）： 2019年08月22日
要約：
【課題】必要な領域の雰囲気調整を確実に行いつつ、雰囲気調整用のガスの使用量を削減する。【解決手段】基板処理装置は、基板Wに処理を施す処理ユニット(60A,60B)と、容器搬出入部(2)と処理ユニットとの間で基板が搬送される搬送空間(33,50A,50B)と、搬送空間内において、容器搬出入部と処理ユニットとの間で、基板を搬送する基板搬送機構(32,51A,51B)と、処理ユニットに雰囲気調整ガスを供給する第1ガス供給路(76A,76B,66)と、処理ユニットから雰囲気調整ガスを排出するための第1ガス排出路(67)と、搬送空間に接続され、搬送空間から流出した雰囲気調整ガスを搬送空間に戻す循環路(81,82,80L)と、搬送空間と循環路とから構成された循環系に雰囲気調整ガスを供給するための第2ガス供給路(801a)と、循環系から雰囲気調整ガスを排出するための第2ガス排出路(804)とを備える。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板を収容した基板搬送容器が載置される容器搬出入部と、 前記基板に処理を施す処理ユニットと、 前記容器搬出入部と前記処理ユニットとの間で基板が搬送される搬送空間と、 前記搬送空間内において、前記容器搬出入部と前記処理ユニットとの間で、前記基板を搬送する基板搬送機構と、 前記処理ユニットに雰囲気調整ガスを供給するための第1ガス供給路と、 前記処理ユニットから前記雰囲気調整ガスを排出するための第1ガス排出路と、 前記搬送空間に接続され、前記搬送空間から流出した前記雰囲気調整ガスを前記搬送空間に戻す循環路と、 前記搬送空間と前記循環路とから構成された循環系に前記雰囲気調整ガスを供給するための第2ガス供給路と、 前記循環系から前記雰囲気調整ガスを排出するための第2ガス排出路と、 を備えた基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/02
FI (3件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/304 648L ,  H01L21/02 Z
Fターム (37件)：
5F131AA02 ,  5F131BB02 ,  5F131BB03 ,  5F131DA32 ,  5F131DA33 ,  5F131DA36 ,  5F131DA42 ,  5F131DB02 ,  5F131DB72 ,  5F131JA08 ,  5F131JA12 ,  5F131JA15 ,  5F131JA20 ,  5F131JA24 ,  5F131JA25 ,  5F131JA32 ,  5F131JA34 ,  5F131JA35 ,  5F131JA40 ,  5F131KA06 ,  5F131KA40 ,  5F131KB44 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB46 ,  5F157AB48 ,  5F157AB72 ,  5F157AB90 ,  5F157BB22 ,  5F157CE76 ,  5F157CE77 ,  5F157CE78 ,  5F157CF42 ,  5F157CF70 ,  5F157CF80 ,  5F157DB55 ,  5F157DC81
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (9件)
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