パルス列アニーリング方法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：園田・小林特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-087816
公開番号（公開出願番号）：特開2016-149573
特許番号：特許第6525919号
出願日： 2016年04月26日
公開日（公表日）： 2016年08月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を処理する装置であって、基板支持体と、前記基板支持体に対向する第1のエネルギー源と、前記第1のエネルギー源に結合された電源と、前記電源に結合されたコントローラと、前記第1のエネルギー源に配置された第1のパルス列発生源であって、電磁放射による第1の複数の同一パルスのみからなる第1のパルス列を発生する同一パルス列発生源と、電磁放射による第2の複数の同一パルスのみからなる第2のパルス列を前記基板支持体に向ける、レーザである第2のエネルギー源と、反射率、透過率または吸収率の変化を検出するように構成された検出器と、を備える、基板処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/268 ( 200 6.01) , H01L 21/265 ( 200 6.01) , H01L 21/263 ( 200 6.01) , H01L 21/42 ( 200 6.01) , H01L 21/425 ( 200 6.01) , H01L 21/428 ( 200 6.01) , H01L 21/477 ( 200 6.01) , H01L 21/26 ( 200 6.01)

FI (15件)：

H01L 21/268 G , H01L 21/265 F , H01L 21/265 W , H01L 21/263 F , H01L 21/42 , H01L 21/425 , H01L 21/428 , H01L 21/477 , H01L 21/268 Z , H01L 21/26 F , H01L 21/268 T , H01L 21/26 T , H01L 21/265 602 B , H01L 21/265 602 C , H01L 21/263 E

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭57-180120
非発光過程走査プローブ顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-216985 出願人：理化学研究所
特開昭64-089578

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