特許
J-GLOBAL ID：201903011727456397
膜形成装置及び膜形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
永井 浩之
, 中村 行孝
, 佐藤 泰和
, 朝倉 悟
, 鈴木 啓靖
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-545799
特許番号：特許第6585180号
出願日： 2016年10月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の膜形成面に自己組織化単分子膜を形成する膜形成装置であって、
前記膜形成装置は、
前記基板を収容するチャンバであって、前記チャンバ内に収容された前記基板の前記膜形成面に対向する対向内壁面を有し、前記対向内壁面が接地電位面である前記チャンバと、
前記チャンバ内に前記自己組織化単分子膜の原料ガスを供給する原料ガス供給部と、
前記チャンバ内に収容された前記基板の前記膜形成面と前記チャンバの前記対向内壁面との間に位置し、電源によって正又は負の電圧が印加される電極と、
を備え、
前記電極に前記電源によって正の電圧が印加される場合、前記電極は、前記対向内壁面よりも正電位の電極として機能し、前記電極と前記対向内壁面との間において、前記チャンバ内に収容された前記基板の前記膜形成面から前記チャンバの前記対向内壁面へ向かう方向に電界を形成し、
前記電極に前記電源によって負の電圧が印加される場合、前記電極は、前記対向内壁面よりも負電位の電極として機能し、前記電極と前記対向内壁面との間において、前記チャンバの前記対向内壁面から前記チャンバ内に収容された前記基板の前記膜形成面へ向かう方向に電界を形成する、前記膜形成装置。
IPC (2件)：
C23C 14/12 ( 200 6.01)
, C23C 14/22 ( 200 6.01)
C23C 14/12
, C23C 14/22 F
