特許
J-GLOBAL ID：201903015718620180

アッシング装置、アッシング方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体

発明者：
鬼海 貴也

鬼海 貴也 について

, 
大石 雄三

大石 雄三 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柏岡 潤二 ,  松澤 寿昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-012256
公開番号（公開出願番号）：特開2019-133971
出願日： 2018年01月29日
公開日（公表日）： 2019年08月08日
要約：
【課題】本開示は、基板の表面に形成された有機被膜をアッシングする際に、アッシングによる被膜除去量の面内均一性を高めることを課題とする。【解決手段】アッシング装置は、表面に有機被膜が形成された基板に対して、有機被膜のアッシング用の処理光を照射するように構成された光照射部と、基板及び光照射部の少なくとも一方を駆動して、光照射部に対する基板の姿勢を変更するように構成された姿勢変更部と、制御部とを備える。制御部は、姿勢変更部及び光照射部を制御して、光照射部に対する基板の姿勢を第1の姿勢から第2の姿勢に変化させつつ、光照射部から基板の表面に光を照射させる第1の処理と、第1の処理に引き続いて、姿勢変更及び光照射部を制御して、光照射部に対する基板の姿勢を第1の姿勢とは異なる第3の姿勢から第4の姿勢に変化させつつ、光照射部から基板の表面に光を照射させる第2の処理とを実行する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
表面に有機被膜が形成された基板に対して、前記有機被膜のアッシング用の処理光を照射するように構成された光照射部と、 基板及び光照射部の少なくとも一方を駆動して、前記光照射部に対する前記基板の姿勢を変更するように構成された姿勢変更部と、 制御部とを備え、 前記制御部は、 前記姿勢変更部及び前記光照射部を制御して、前記光照射部に対する前記基板の姿勢を第1の姿勢から第2の姿勢に変化させつつ、前記光照射部から前記基板の表面に前記処理光を照射させる第1の処理と、 前記第1の処理に引き続いて、前記姿勢変更及び前記光照射部を制御して、前記光照射部に対する前記基板の姿勢を前記第1の姿勢とは異なる第3の姿勢から第4の姿勢に変化させつつ、前記光照射部から前記基板の表面に前記処理光を照射させる第2の処理とを実行する、アッシング装置。
IPC (1件)：
H01L 21/306
FI (1件)：
H01L21/302 104H
Fターム (19件)：
5F004AA01 ,  5F004BA19 ,  5F004BB02 ,  5F004BB18 ,  5F004BB26 ,  5F004BB32 ,  5F004BD01 ,  5F004DA26 ,  5F004DB25 ,  5F157AA42 ,  5F157AB02 ,  5F157AB12 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BG04 ,  5F157BG44 ,  5F157BH18
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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