形成装置および物品製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 大塚康弘 , 高柳司郎 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-229192
公開番号（公開出願番号）：特開2019-068085
出願日： 2018年12月06日
公開日（公表日）： 2019年04月25日
要約：

【課題】光化学反応速度が照射される光の照度の平方根に比例する組成物を使用する形成装置において組成物の光重合度を良好に制御するために有利な技術を提供する。【解決手段】形成装置は、光化学反応速度が照射される光の照度の平方根に比例する組成物に型を接触させた状態で光を照射することによって前記組成物を硬化させて膜を形成する。前記形成装置は、前記組成物を硬化させるための光を前記組成物に照射する照射部と、前記照射部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記組成物が目標重合度の所定の範囲に収まるように硬化されていない場合に、前記照射部により前記組成物に照射される光の照度の平方根に基づいて、前記照射部による前記組成物に対する照射時間を調整する【選択図】図3

請求項（抜粋）：

光化学反応速度が照射される光の照度の平方根に比例する組成物に型を接触させた状態で光を照射することによって前記組成物を硬化させて膜を形成する形成装置であって、前記組成物を硬化させるための光を前記組成物に照射する照射部と、前記照射部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記組成物が目標重合度の所定の範囲に収まるように硬化されていない場合に、前記照射部により前記組成物に照射される光の照度の平方根に基づいて、前記照射部による前記組成物に対する照射時間を調整する、ことを特徴とする形成装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D , B29C59/02 Z

Fターム (12件)：

4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AR11 , 4F209AR20 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 5F146AA31 , 5F146AA33

引用特許：

審査官引用 (5件)

パターン形成装置及び半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-043038 出願人：株式会社東芝
加工装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-266195 出願人：キヤノン株式会社
インプリント装置及び物品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-009530 出願人：キヤノン株式会社

全件表示

引用文献：

審査官引用 (2件)

感光性樹脂の基礎と実用, 20010510, 242-243
UV・EV硬化技術, 19821030, 160-161

前のページに戻る