特許
J-GLOBAL ID：201403095627328008

インプリント装置、デバイス製造方法及びインプリント装置に用いられる型

発明者：
千葉 啓子

千葉 啓子 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-274580
公開番号（公開出願番号）：特開2014-120604
出願日： 2012年12月17日
公開日（公表日）： 2014年06月30日
要約：
【課題】 本発明は、基板上に形成されるパターンの欠陥を減少させることができるインプリント装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のインプリント装置は、基板上の樹脂に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、前記型と接触した状態の前記樹脂に該樹脂を硬化させるエネルギーを供給する供給部と、前記型と前記樹脂とが最初に離型する領域に供給するエネルギーよりも、前記型と前記樹脂とが最後に離型する領域に供給するエネルギーが多くなるように、前記供給部から前記樹脂に供給されるエネルギーを調整する調整部と、を備えることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上の樹脂に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、 前記型と接触した状態の前記樹脂に該樹脂を硬化させるエネルギーを供給する供給部と、 前記型と前記樹脂とが最初に離型する領域に供給するエネルギーよりも前記型と前記樹脂とが最後に離型する領域に供給するエネルギーが多くなるように、前記供給部から前記樹脂に供給されるエネルギーを調整する調整部と、 を備えることを特徴とするインプリント装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  B29C 33/38
FI (3件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z ,  B29C33/38
Fターム (36件)：
4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AH38 ,  4F202AJ06 ,  4F202AK03 ,  4F202AM32 ,  4F202AR11 ,  4F202AR12 ,  4F202AR20 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD02 ,  4F202CD23 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH38 ,  4F209AJ06 ,  4F209AK03 ,  4F209AM32 ,  4F209AR11 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN03 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA32 ,  5F146AA34
引用特許：
審査官引用 (9件)
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