特許
J-GLOBAL ID：201903020095067070

測定処理方法、測定処理装置、X線検査装置、および構造物の製造方法

発明者：
町井 暢且

町井 暢且 について

, 
早野 史倫

早野 史倫 について

, 
河井 章利

河井 章利 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (2件)： 永井 冬紀 ,  白石 直正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-153882
公開番号（公開出願番号）：特開2019-007972
出願日： 2018年08月20日
公開日（公表日）： 2019年01月17日
要約：
【課題】被検物の検査に要する時間を短くする、測定処理方法を提供する。【解決手段】測定処理方法は、被検査物の一部の領域にのみ評価領域を設定することと、前記評価領域の状態を把握するために、取得されたX線による検査結果を前記評価領域のみに対応して表示することと、を含む。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被検査物の一部の領域にのみ評価領域を設定することと、 前記評価領域の状態を把握するために、取得されたX線による検査結果を前記評価領域のみに対応して表示することと、を含む測定処理方法。
IPC (3件)：
G01N 23/046 ,  G01N 23/18 ,  G01N 23/04
FI (3件)：
G01N23/046 ,  G01N23/18 ,  G01N23/04 340
Fターム (14件)：
2G001AA01 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001DA08 ,  2G001DA09 ,  2G001GA06 ,  2G001GA08 ,  2G001HA13 ,  2G001HA14 ,  2G001JA08 ,  2G001KA03 ,  2G001LA02 ,  2G001PA11 ,  2G001PA14
引用特許：
審査官引用 (5件)
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