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J-GLOBAL ID：202002217463903358   整理番号：20A0371201

N-メチル-2-ピロリドンを用いた湿式洗浄による金属/単層MoS₂界面の界面熱伝導制御

Tuning thermal conductance across metal/MoS₂ monolayer interface through N-methyl-2-pyrrolidone wet cleaning

著者 (4件)： WU Yen-Ju (National Inst. Materials Sci.(NIMS), Ibaraki, JPN) ,  LAN Yann-Wen (National Taiwan Normal Univ., Taipei, TWN) ,  HSU Shih-Chieh (Tamkang Univ., New Taipei city, TWN) ,  XU Yibin (National Inst. Materials Sci.(NIMS), Ibaraki, JPN)
資料名： Thermophysical Properties  (Thermophysical Properties)
巻： 40th  ページ： 40-42  発行年： 2019年10月18日 
JST資料番号： X0031A  ISSN： 0911-1743  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *単一層 ,  *硫化モリブデン ,  *金属 ,  *熱伝導 ,  *界面 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  湿式法 ,  *化学洗浄 ,  Raman分光法 ,  X線光電子分光法 ,  透過型電子顕微鏡 ,  温度依存性
準シソーラス用語： 界面熱伝導

分類 (1件)： 比熱・熱伝導一般  (BL05021E)

物質索引 (1件)： N-メチル-2-ピロリドン

引用文献 (12件)：

• J. Pu, Y. Yomogida, K. K. Liu, L. J. Li, Y. Iwasa and T. Takenobu, Nano Lett 12 (8), 4013-4017 (2012).
• D. S. Tsai, K. K. Liu, D. H. Lien, M. L. Tsai, C. F. Kang, C. A. Lin, L. J. Li and J. H. He, Acs Nano 7 (5), 3905-3911 (2013).
• K. F. Mak, C. Lee, J. Hone, J. Shan and T. F. Heinz, Phys Rev Lett 105 (13), 136805 (2010).
• V. Kaushik, S. H. Wu, H. Jang, J. Kang, K. Kim and J. W. Suk, Nanomaterials 8 (8) (2018).
• X. Cui, C. Z. Zhang, R. Hao and Y. L. Hou, Nanoscale 3 (5), 2118-2126 (2011).

タイトルに関連する用語 (6件)： N-メチル-2-ピロリドン ,  洗浄 ,  単層 ,  MoS2 ,  界面 ,  熱伝導