文献

J-GLOBAL ID：202002270442208706   整理番号：20A2607928

p-t-ブチルカリックス[n]アレーン(n=4および8)から誘導した高感度極端紫外線(EUV)レジスト材料

Higher Sensitive Extreme Ultraviolet (EUV) Resist Materials Derived From p-t-Butylcalix[n]arenes (n = 4 and 8)

著者 (6件)： Maekawa Hiroyuki (Department of Chemistry and Materials Engineering, Faculty of Chemistry, Materials and Bioengineering, Kansai University) ,  Kudo Hiroto (Department of Chemistry and Materials Engineering, Faculty of Chemistry, Materials and Bioengineering, Kansai University) ,  Watanabe Takeo (Center for EUVL, LASTI, University of Hyogo) ,  Yamamoto Hiroki (National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology) ,  Okamoto Kazumasa (Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University) ,  Kozawa Takahiro (Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology (Web)  (Journal of Photopolymer Science and Technology (Web))
巻： 33  号： 1  ページ： 45-51(J-STAGE)  発行年： 2020年 
JST資料番号： U2132A  ISSN： 1349-6336  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは,カリックスアレーンから誘導した固定孔を含む種々の重合体およびオリゴマの合成,物理的性質およびレジスト特性について調べた。1,4-ジクロロ-2-オキサブタン(DCB)と2,5-ジブロモアセチルオキシ-2,5-ジメチルヘキサン(DBH)とp-t-ブチルカリックス[n]アレーン(n=4および8)の縮合反応によって,可溶性高分子ポリ(BCA[8]-co-DCB),ポリ(BCA[8]-co-DBH),およびポリ(BCA[4]-co-DCB),およびオリゴマBCA[4]-DBHを得た。それらは良好な物理的性質(溶解度,膜形成能力,高熱安定性),優れた厚み損失特性,および紫外線(UV)照射による酸脱保護反応性を有する。極端紫外線(EUV)露光ツールにおけるレジスト感受性は,ポリ(BCA[8]-co-DBH)およびBCA[4]-DBHがより高い分解能レジストパターン,すなわちE0=5.0mJ/cm²(BCA[4]-DBH)を提供する良い候補であることを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *レジスト ,  *カリックスアレーン ,  *極端紫外線 ,  *オリゴマ化 ,  *化学合成 ,  縮合反応 ,  熱安定性 ,  構成 ,  脱保護基 ,  材料 ,  紫外線照射 ,  溶解度 ,  露光 ,  *フォトレジスト ,  感度解析 ,  分子構造
準シソーラス用語： *オリゴマ生成 ,  *ポジティブフォトレジスト ,  レジスト材料 ,  感受性解析 ,  *重合体合成 ,  薄膜形成 ,  *分子レジスト

著者キーワード (4件)： 分子レジスト ,  カリキサレン ,  ボトリオシン ,  極端紫外

分類 (3件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固体デバイス一般  (NC03010Z)

引用文献 (20件)：

• 1. V. Bakshi, “EUV Lithography”, John Wiley & Sons, Inc. (2009).
• 2. H. Kudo and T. Nishikubo, J. Photopolym. Sci. Technol., 24 (2011) 9.
• 3. H. Kudo, R. Hayashi, K. Mitani, T. Yokozawa, N. C. Kasuga, and T. Nishikubo, Angew. Chem. Int. Ed., 45 (2006) 7948.
• 4. M. Tanaka, A. Rastogi, H. Kudo, D. Watanabe, T. Nishikubo, and C. K. Ober, J. Mater. Chem., 19 (2009) 4622.
• 5. H. Kudo, D. Watanabe, T. Nishikubo, K. Maruyama, D. Shimizu, T. Kai, T. Shimokawa, and C. K. Ober, J. Mater. Chem., 18 (2008) 3588.

タイトルに関連する用語 (6件)： アレーン ,  誘導 ,  高感度 ,  極端紫外線 ,  EUV ,  レジスト材料