特許
J-GLOBAL ID：202003002835784602
測定を向上させるための非対称なサブ分解能フィーチャを用いるリソグラフィプロセスの光学計測
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
森下 賢樹
, 青木 武司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-532067
特許番号：特許第6738423号
出願日： 2016年11月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】フォトリソグラフィプロセスでパターニングされた構造の散乱計測による瞳強度測定値から前記フォトリソグラフィプロセスのプロセス特性を推測するためのモデルを構築する方法であって、
複数の構造のそれぞれの散乱計測による複数の瞳強度測定値と、前記複数の構造のそれぞれのパターニングプロセスのプロセス条件を示す複数のプロセス特性と、を含むトレーニングデータを取得することと、
一以上のプロセッサを用いて、少なくとも一つのプロセス特性の変化と、前記複数の瞳強度測定値における対応する変化とを関連付ける係数を決定することと、を備えることを特徴とする方法。
IPC (3件)：
G03F 9/00 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/66 ( 200 6.01)
G03F 9/00 H
, G03F 7/20 501
, G03F 7/20 521
, H01L 21/66 J
