特許
J-GLOBAL ID：200903078682114503
インスペクション方法およびインスペクション装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セルならびにデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-181810
公開番号（公開出願番号）：特開2008-028389
出願日： 2007年07月11日
公開日（公表日）： 2008年02月07日
要約：
【課題】下にある構造体の変化に対してそれほど敏感でないターゲット構造体のパラメータをスキャトロメトリデータから判定する方法を提供する。【解決手段】スキャトロメトリ法では、関係パラメータに対してそれぞれ異なる感度を有する差ターゲットが、キャリブレーションマトリックスでプリントされ、差スペクトルが得られる。下にある構造体の変化に対する感度が単一ターゲットから得られたスペクトルから得られたキャリブレーション関数より低いキャリブレーション関数を得るために、差スペクトルに主要構成要素分析が与えられる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ターゲットパターンを基板上にプリントするリソグラフィプロセスのパラメータを測定する方法であって、
複数のキャリブレーションパターンを前記リソグラフィプロセスによって形成するために基準パターンのイメージをキャリブレーション基板の放射感応性層上に複数回投影するステップであって、前記パラメータの様々な値が、前記キャリブレーションパターンの様々な値を形成するために使用され、前記基準パターンが、前記パラメータの値の変化に対してそれぞれ異なる感度を有する第1部分および第2部分を含む、ステップと、
各キャリブレーションパターンの各部分の測定結果を得るために、インスペクション放射ビームを前記キャリブレーションパターン上に誘導し、そこからの反射または散乱された放射を測定するステップと、
複数の差測定結果を得るために各キャリブレーションパターンの前記第1部分の前記測定結果を前記それぞれのキャリブレーションパターンの前記第2部分の前記測定結果から引くステップと、
前記各差測定結果を1組の基底関数および関連係数に分解し、前記係数の値と前記パラメータの値との関係を得るステップと、
ターゲットパターンを形成するために前記基準パターンのイメージを基板の放射感応性層上に投影するステップであって、前記ターゲットパターンを形成するために使用される前記パラメータの値は知られていないステップと、
前記ターゲットパターンの各部分のターゲット測定結果を得るために、インスペクション放射ビームをターゲットパターン上に誘導し、そこからの反射または散乱された前記放射を測定するステップと、
ターゲット差測定結果を得るために前記ターゲットパターンの前記第1部分の前記ターゲット測定結果を前記ターゲットパターンの前記第2部分の前記ターゲット測定結果から引くステップと、
前記ターゲット差測定結果を複数の基底関数に掛ける1組の係数に分解し、前記係数の値と前記パラメータの値との関係を使用して、前記ターゲットパターンを形成するために使用される前記パラメータの値を決定するステップと
を含む方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
5F046AA18
, 5F046DA02
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DD03
