プラズマ処理装置、及びリング部材の形状測定方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-214701
公開番号（公開出願番号）：特開2020-087969
出願日： 2018年11月15日
公開日（公表日）： 2020年06月04日
要約：

【課題】リング部材の形状を適切に測定する。【解決手段】載置台は、複数の治具を順次載置する第1の載置面と、リング部材を載置する第2の載置面とを有する。複数の治具は、各々がリング部材の上面と対向する対向部を有し、リング部材の径方向における対向部の位置が互いに異なる。取得部は、第2の載置面と第1の載置面に載置された複数の治具の各々の対向部との間隔寸法を示す間隔情報を取得する。計測部は、第1の載置面に複数の治具の各々が載置された状態で、リング部材を上昇させ、対向部にリング部材の上面が接触する場合に、第2の載置面からのリング部材の上昇距離を計測する。厚さ算出部は、間隔情報により示される間隔寸法と、リング部材の上昇距離とに基づき、リング部材の径方向の複数の位置の各々での、リング部材の厚さを算出する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

被処理体の周囲に配置されるリング部材の形状測定に用いられる複数の治具であって、各々が前記リング部材の上面と対向する対向部を有し、前記リング部材の径方向における前記対向部の位置が互いに異なる前記複数の治具を順次載置する第1の載置面と、前記リング部材を載置する第2の載置面とを有する載置台と、前記第2の載置面に対して前記リング部材を昇降させる昇降機構と、前記第2の載置面と前記第1の載置面に載置された前記複数の治具の各々の前記対向部との間隔寸法を示す間隔情報を取得する取得部と、前記第1の載置面に前記複数の治具の各々が載置された状態で、前記昇降機構により前記リング部材を上昇させ、前記対向部に前記リング部材の上面が接触する場合に、前記第2の載置面からの前記リング部材の上昇距離を計測する計測部と、取得された前記間隔情報により示される前記間隔寸法と、計測された前記リング部材の上昇距離とに基づき、前記リング部材の径方向の複数の位置の各々での、前記リング部材の厚さを算出する厚さ算出部と、を有する、プラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 , H01L 21/683

FI (2件)：

H01L21/302 101G , H01L21/68 R

Fターム (31件)：

5F004BA09 , 5F004BB12 , 5F004BB13 , 5F004BB22 , 5F004BB23 , 5F004BB25 , 5F004BB28 , 5F004CA06 , 5F131AA02 , 5F131BA19 , 5F131CA04 , 5F131CA06 , 5F131CA32 , 5F131CA42 , 5F131CA45 , 5F131DA07 , 5F131DA33 , 5F131DA42 , 5F131EA03 , 5F131EA13 , 5F131EB11 , 5F131EB17 , 5F131EB72 , 5F131EB78 , 5F131EB84 , 5F131JA16 , 5F131JA20 , 5F131JA26 , 5F131KA72 , 5F131KB12 , 5F131KB32

引用特許：

審査官引用 (5件)

エッジリング特性評価を実行するためのシステムおよび方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2017-006322 出願人：ラムリサーチコーポレーション
プラズマエッチングシステム用の炭化珪素焦点リング
公報種別：公表公報出願番号：特願2010-538105 出願人：東京エレクトロン株式会社
半導体ウエハ処理中におけるエッジ処理制御のための可動式エッジ連結リング
公報種別：公開公報出願番号：特願2016-004302 出願人：ラムリサーチコーポレーション

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