プラズマエッチングシステム用の炭化珪素焦点リング

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-538105
公開番号（公開出願番号）：特表2011-507274
出願日： 2008年12月10日
公開日（公表日）： 2011年03月03日
要約：

プラズマエッチングシステム用の高抵抗率の炭化珪素焦点リングについて示した。焦点リングは、上部表面、底部表面、内側半径方向端部、および外側半径方向端部を有し、プラズマ処理チャンバ内の基板ホルダ上の基板を取り囲むように構成される。焦点リングは、高抵抗率の炭化珪素を有し、この抵抗率は、100Ωcm以上である。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理システム内の基板ホルダ上の基板を取り囲む焦点リングであって、当該焦点リングは、上部表面、底部表面、内側半径方向端部、および外側半径方向端部を有し、抵抗率が約100Ωcm以上の高抵抗率の炭化珪素を有することを特徴とする焦点リング。

IPC (2件)：

H01L 21/306 , H05H 1/46

FI (2件)：

H01L21/302 101Z , H05H1/46 M

Fターム (22件)：

5F004AA16 , 5F004BA04 , 5F004BA14 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB23 , 5F004BB29 , 5F004CA02 , 5F004CA03 , 5F004CA04 , 5F004CA06 , 5F004CB02 , 5F004CB09 , 5F004DA00 , 5F004DA01 , 5F004DA15 , 5F004DA22 , 5F004DA25 , 5F004DA26 , 5F004DB02 , 5F004EA22 , 5F004EA28

引用特許：

審査官引用 (7件)

プラズマ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-175231 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
改良されたフォーカスリングに対する方法および装置。
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-539514 出願人：東京エレクトロン株式会社
耐エッチング性に優れたエッチャー用リング
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-063968 出願人：三井造船株式会社, 株式会社アドマップ

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