特許
J-GLOBAL ID:202003006182246060
n型ドーパントでドープされた<100>方位を有するシリコンの単結晶、およびそのような単結晶の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人深見特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-512371
公開番号(公開出願番号):特表2020-531401
出願日: 2018年08月28日
公開日(公表日): 2020年11月05日
要約:
本発明は、<100>方位を有するシリコン単結晶、および<100>方位を有するシリコン単結晶を製造するための方法に関する。単結晶は、n型ドーパントでドープされ、開始コーン部、円柱部分、および終了コーン部を含み、開始コーン部の長さの50%以上の長さを有する、開始コーン部の中間部分の結晶角度は、20°以上30°以下であり、縁部ファセットが、単結晶の縁部から単結晶内に延び、縁部ファセットは、単結晶の開始コーン部および円柱部分において、各々、700μm以下の長さを有する。
請求項(抜粋):
<100>方位を有するシリコンの単結晶であって、n型ドーパントでドープされ、開始コーン部、円柱部分、および終了コーン部を含み、前記開始コーン部の長さの50%以上の長さを有する、前記開始コーン部の中間部分の結晶角度は、20°以上30°以下であり、縁部ファセットが、前記単結晶の周縁部から前記単結晶内に延び、前記縁部ファセットは、前記単結晶の前記開始コーン部および前記円柱部分において、各々、700μm以下の長さを有する、シリコンの単結晶。
IPC (3件):
C30B 29/06
, C30B 33/00
, C30B 15/20
FI (5件):
C30B29/06 502Z
, C30B29/06 502H
, C30B29/06 502J
, C30B33/00
, C30B15/20
Fターム (15件):
4G077AA02
, 4G077AA03
, 4G077AB06
, 4G077AB10
, 4G077BA04
, 4G077CF10
, 4G077EB05
, 4G077EH09
, 4G077FE11
, 4G077FE18
, 4G077FG13
, 4G077HA06
, 4G077HA12
, 4G077PA10
, 4G077PF55
引用特許:
出願人引用 (5件)
-
単結晶棒及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-154565
出願人:ワッカージルトロニックゲゼルシャフトフュアハルプライターマテリアーリエンアクチエンゲゼルシャフト
-
結晶育成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-367703
出願人:住友金属工業株式会社
-
エピタキシャルウェーハとその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-252463
出願人:三菱住友シリコン株式会社
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審査官引用 (5件)
-
単結晶棒及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-154565
出願人:ワッカージルトロニックゲゼルシャフトフュアハルプライターマテリアーリエンアクチエンゲゼルシャフト
-
結晶育成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-367703
出願人:住友金属工業株式会社
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エピタキシャルウェーハとその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-252463
出願人:三菱住友シリコン株式会社
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