特許
J-GLOBAL ID:202003006460469157

レーザ加工システムのための装置、これを用いたレーザ加工システム、および光学素子の焦点位置を調節する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-519725
公開番号(公開出願番号):特表2020-536740
出願日: 2018年10月02日
公開日(公表日): 2020年12月17日
要約:
発明は、レーザ作業システムのための装置100、600に関し、装置のビーム経路に配置された少なくとも1つの光学素子110、610と、検出器素子の行列を有する1つの温度検出器アセンブリ105、620とを備え、上記温度検出器アセンブリが光学素子110、610の2次元温度分布を測定するように設計される。
請求項(抜粋):
レーザ加工システムのための装置(100、600)であって、 前記装置のビーム経路に配置された光学素子(110、610)と、 前記光学素子(110、610)の2次元温度分布を測定するように構成された検出器素子の行列を有する温度検出器アレンジメント(115、620)と を備えることを特徴とする装置。
IPC (3件):
B23K 26/046 ,  G01J 5/48 ,  B23K 26/00
FI (3件):
B23K26/046 ,  G01J5/48 A ,  B23K26/00 M
Fターム (14件):
2G066AC20 ,  2G066BA08 ,  2G066BA18 ,  2G066BA22 ,  2G066CA01 ,  2G066CA02 ,  4E168AD07 ,  4E168BA00 ,  4E168CA11 ,  4E168CB12 ,  4E168EA13 ,  4E168EA17 ,  4E168KA17 ,  4E168KB02
引用特許:
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る