特許
J-GLOBAL ID：202003008346604870

マスク検査方法及びマスク検査装置

発明者：
加賀 千翔人

加賀 千翔人 について

, 
鈴木 弘修

鈴木 弘修 について


出願人/特許権者：
レーザーテック株式会社

レーザーテック株式会社 について


代理人 (2件)： 家入 健 ,  岩瀬 康弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-225152
公開番号（公開出願番号）：特開2020-085839
出願日： 2018年11月30日
公開日（公表日）： 2020年06月04日
要約：
【課題】検査時の輝度変化を補正して、精度よく検査対象を検査することができるマスク検査方法及び検査装置を提供する。【解決手段】マスク検査方法は、照明光がマスクで反射した反射光Rを検出することにより、マスクのリファレンス画像を取得するステップS11と、リファレンス画像を取得したマスクに所定の処理を行うステップS12と、照明光が、所定の処理を行ったマスクで反射した反射光を検出することにより、マスクの検査画像を取得するステップS13と、リファレンス画像と、検査画像と、を比較することによりマスクを検査するステップS14と、を備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
照明光がマスクで反射した反射光を検出することにより、前記マスクのリファレンス画像を取得するステップと、 前記リファレンス画像を取得した前記マスクに所定の処理を行うステップと、 前記照明光が、前記所定の処理を行った前記マスクで反射した前記反射光を検出することにより、前記マスクの検査画像を取得するステップと、 前記リファレンス画像と、前記検査画像と、を比較することにより前記マスクを検査するステップと、 を備えたマスク検査方法。
IPC (1件)：
G01B 11/24
FI (1件)：
G01B11/24 K
Fターム (14件)：
2F065AA49 ,  2F065AA51 ,  2F065CC18 ,  2F065FF04 ,  2F065FF44 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR07 ,  2F065RR08 ,  2F065TT06
引用特許：
審査官引用 (5件)
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