特許
J-GLOBAL ID：202003011164694610

セラミックスの内部構造観察装置及び内部構造解析システム、セラミックスの内部構造観察方法及び内部構造解析方法、並びにセラミックスの製造方法

発明者：
▲高▼橋 拓実

▲高▼橋 拓実 について

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多々見 純一

多々見 純一 について

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坂本 文香

坂本 文香 について

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加藤 真由

加藤 真由 について


出願人/特許権者：
地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所

地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所 について

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国立大学法人横浜国立大学

国立大学法人横浜国立大学 について


代理人 (4件)： 小池 晃 ,  河野 貴明 ,  村上 浩之 ,  北原 明彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-157784
公開番号（公開出願番号）：特開2020-030191
出願日： 2018年08月24日
公開日（公表日）： 2020年02月27日
要約：
【課題】セラミックスの脱脂過程や焼結過程のその場観察、および内部構造変化の解明を可能にする。【解決手段】セラミックスの原料物質を成形してなる成形体1に対し熱処理を施す熱処理炉11内において熱処理中の上記成形体1について、光干渉断層画像生成装置20を用いて上記熱処理炉11の外部から赤外線領域の光を照射して光干渉断層撮影を行い光干渉断層画像を生成することにより、上記光干渉断層画像生成装置20により生成される光干渉断層画像として、上記熱処理炉によるセラミックスの熱処理過程における成形体内部の構造を観察可能にする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
セラミックスの原料物質を成形してなる成形体に対し熱処理を施す熱処理炉と、 上記熱処理炉内において熱処理中の上記成形体に熱処理炉の外部から赤外線領域の光を照射して光干渉断層撮影を行い光干渉断層画像を生成する光干渉断層画像生成部と を備え、 上記光干渉断層画像生成部により生成される光干渉断層画像として、上記熱処理炉によるセラミックスの熱処理過程における成形体内部の構造を観察可能としたことを特徴とするセラミックスの内部構造観察装置。
IPC (2件)：
G01N 21/17 ,  G01N 25/72
FI (2件)：
G01N21/17 620 ,  G01N25/72 K
Fターム (25件)：
2G040BA02 ,  2G040BA25 ,  2G040CA03 ,  2G040CA16 ,  2G040CA17 ,  2G040CA23 ,  2G040DA06 ,  2G040DA10 ,  2G040DA22 ,  2G040EC01 ,  2G040EC09 ,  2G040FA04 ,  2G040GA03 ,  2G040GC01 ,  2G059AA02 ,  2G059AA05 ,  2G059BB08 ,  2G059CC01 ,  2G059EE09 ,  2G059FF01 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10
引用特許：
審査官引用 (9件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)
  • 光コヒーレンストモグラフィ(OCT)によるセラミックススラリー、成形体、焼結体の三次元リアルタイム観

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