特許
J-GLOBAL ID：202003012190542264
表面処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 柴山 健一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-098787
公開番号（公開出願番号）：特開2017-205695
特許番号：特許第6694324号
出願日： 2016年05月17日
公開日（公表日）： 2017年11月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 紫外光を出射する光源部と、
前記光源部との間に、被処理物の表面処理が行われる処理空間を形成する光反射部と、を備え、
前記光源部は、前記紫外光を発する平面状の発光領域を含む紫外光発生器と、前記紫外光発生器を収容し、前記発光領域から発せられた前記紫外光を通過させる光通過領域が形成された筐体と、を有し、
前記光反射部は、前記処理空間を介して前記光通過領域と対向する平面状の第1光反射面を有し、
前記処理空間には、前記処理空間に前記被処理物が導入される被処理物導入部、及び前記処理空間から前記被処理物が導出される被処理物導出部が設けられており、
前記処理空間には、前記処理空間に酸素含有ガスが導入されるガス導入部、及び前記処理空間からオゾン含有ガスが導出されるガス導出部が設けられ、
前記光反射部は、前記筐体に固定されている、表面処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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