特許
J-GLOBAL ID：201003068224159536

紫外線照射装置

発明者：
山森 賢治

山森 賢治 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 吉雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-064261
公開番号（公開出願番号）：特開2010-214294
出願日： 2009年03月17日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：
【課題】 本発明の目的は、センサで受光される真空紫外線の強度と、被照射物へ照射される真空紫外線の強度とを近似させる紫外線照射装置を提供することにある。【解決手段】 第1の発明に係る紫外線照射装置は、被照射物に対して真空紫外光を出射するエキシマランプと、この真空紫外光を受光すると共に光取込部を備えた光センサと、エキシマランプを取り囲む筐体と、からなる紫外線照射装置において、前記光取込部と前記エキシマランプとの間に、不活性ガスと酸素との混合ガスを吹き出すブロー管を有し、前記光取込部と前記エキシマランプとの距離をY1、その間の酸素濃度をP1とし、前記エキシマランプと前記被照射物との距離をY2、その間の酸素濃度をP2とするとき、以下の関係を満たすことを特徴とする。 0.8≦Y2×P2/Y1×P1≦1.2【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被照射物に対して真空紫外光を出射するエキシマランプと、この真空紫外光を受光すると共に光取込部を備えた光センサと、エキシマランプを取り囲む筐体と、からなる紫外線照射装置において、 前記光取込部と前記エキシマランプとの間に、不活性ガスと酸素との混合ガスを吹き出すブロー管を有し、 前記光取込部と前記エキシマランプとの距離をY1、その間の酸素濃度をP1とし、 前記エキシマランプと前記被照射物との距離をY2、その間の酸素濃度をP2とするとき、 以下の関係を満たす ことを特徴とする紫外線照射装置。 0.8≦Y2×P2/Y1×P1≦1.2
IPC (5件)：
B01J 19/12 ,  B08B 7/00 ,  H01L 21/304 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133
FI (6件)：
B01J19/12 C ,  B08B7/00 ,  H01L21/304 645D ,  H01L21/304 648L ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500
Fターム (42件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA28 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B116AA02 ,  3B116AB13 ,  3B116BB89 ,  3B116BC01 ,  4G075AA30 ,  4G075BC10 ,  4G075CA33 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EB32 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB84 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BG04 ,  5F157BG12 ,  5F157BG39 ,  5F157BG44 ,  5F157BG46 ,  5F157BG73 ,  5F157BG85 ,  5F157CE28 ,  5F157CE29 ,  5F157CE82 ,  5F157CF16 ,  5F157CF42 ,  5F157CF60 ,  5F157CF90 ,  5F157DB11
引用特許：
審査官引用 (12件)
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