特許
J-GLOBAL ID：202003012544266820

保持装置および保持装置の製造方法

発明者：
齊藤 翔太

齊藤 翔太 について


出願人/特許権者：
日本特殊陶業株式会社

日本特殊陶業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人アルファ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-023582
公開番号（公開出願番号）：特開2017-143182
特許番号：特許第6633931号
出願日： 2016年02月10日
公開日（公表日）： 2017年08月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 第1の表面と、前記第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有する板状のセラミックス板と、 第3の表面を有する板状であり、前記第3の表面が前記セラミックス板の前記第2の表面に対向するように配置され、冷媒流路が形成されたベース板と、 前記セラミックス板の内部、または、前記セラミックス板の前記ベース板側に配置されたヒータと、 前記セラミックス板と前記ベース板との間に配置され、前記セラミックス板と前記ヒータとの少なくとも一方と前記ベース板とを接着する接着層と、 を備え、前記セラミックス板の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、 前記接着層の内部には、前記接着層を厚さ方向に貫通しない少なくとも1つの空間が形成されており、 前記接着層は、前記接着層の厚さ方向視で前記空間と重ならない第1の部分と、前記接着層の厚さ方向視で前記第1の部分と重ならず、かつ、前記第1の部分より高密度である少なくとも1つの第2の部分と、を含むことを特徴とする、保持装置。
IPC (4件)：
H01L 21/683 ( 200 6.01) ,  H02N 13/00 ( 200 6.01) ,  H05B 3/18 ( 200 6.01) ,  H05B 3/68 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H01L 21/68 R ,  H02N 13/00 D ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/68
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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