特許
J-GLOBAL ID:202003012575235109
ジブロックコポリマーの自己組織化によりナノメートル構造の作成を可能にする方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
園田・小林特許業務法人
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-520591
特許番号:特許第6777736号
出願日: 2016年10月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ブロックの一方が以下の式(I):
[式中、X=Si(CH3,CH3)
Z=C(H,H)
Y=C(H,H)
T=C(H,H)]
に相当する少なくとも1つのモノマーの重合より生じ、他方のブロックがビニル芳香族モノマーを含むブロックコポリマーを含む組成物を使用し、以下の工程:
- ブロックコポリマーを溶媒に溶解する工程、
- この溶液を表面上に堆積させる工程、
- アニールする工程
を含む、ナノ構造化組織化方法であって、
表面が、式(I)のモノマー由来の単位及びビニル芳香族モノマー由来の単位を含むランダムコポリマーで処理される、方法。
IPC (5件):
B05D 7/24 ( 200 6.01)
, C08J 7/00 ( 200 6.01)
, B05D 3/02 ( 200 6.01)
, B32B 27/30 ( 200 6.01)
, C08G 77/60 ( 200 6.01)
FI (7件):
B05D 7/24 302 J
, C08J 7/00 301
, C08J 7/00 CER
, C08J 7/00 306
, B05D 3/02 Z
, B32B 27/30 B
, C08G 77/60
引用特許:
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