特許
J-GLOBAL ID：201703010698603368

ブロックコポリマーの自己組織化によりナノメートル構造体の作製を可能にする方法

発明者：
ムムタズ, ムハンマド

ムムタズ, ムハンマド について

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アイス, カリム

アイス, カリム について

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ブロション, シリル

ブロション, シリル について

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クルテ, エリク

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フルーリー, ギヨーム

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ハジオアノウ, ジョルジュ

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ナヴァロ, クリストフ

ナヴァロ, クリストフ について

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ニコレ, セリア

ニコレ, セリア について

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シュバリエ, ザビエル

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出願人/特許権者：
アルケマ フランス

アルケマ フランス について

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セントレ ナショナル ドゥ ラ レシェルシェ サイエンティフィーク

セントレ ナショナル ドゥ ラ レシェルシェ サイエンティフィーク について

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アンスティチュ ポリテクニーク ドゥ ボルドー

アンスティチュ ポリテクニーク ドゥ ボルドー について

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ユニヴェルシテ・ドゥ・ボルドー

ユニヴェルシテ・ドゥ・ボルドー について


代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-538584
公開番号（公開出願番号）：特表2017-503043
出願日： 2014年12月11日
公開日（公表日）： 2017年01月26日
要約：
本発明は、ブロックコポリマーのブロックの少なくとも1つが、結晶化可能であるか、又は少なくとも1つの液晶相を有するブロックコポリマーの自己組織化によるナノメートル構造体の作製を可能にする方法に関する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ブロックコポリマーのブロックの少なくとも1つが、結晶化可能であるか、又は少なくとも1つの液晶相を有するブロックコポリマーを含む組成物を使用したナノ構造組織化方法であって、 - 溶媒中にブロックコポリマーを溶解させる工程、 - この溶液を表面上に堆積させる工程、 - アニーリングする工程 を含む、方法。
IPC (7件)：
C08J 3/09 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/40 ,  C08J 3/14 ,  C08F 297/00 ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00
FI (7件)：
C08J3/09 ,  H01L21/30 502D ,  G03F7/40 521 ,  C08J3/14 ,  C08F297/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00
Fターム (24件)：
2H196AA25 ,  2H196AA27 ,  2H196LA31 ,  4F070AA32 ,  4F070AA59 ,  4F070AB08 ,  4F070AC32 ,  4F070AC38 ,  4F070AE28 ,  4F070BA02 ,  4F070BA07 ,  4F070BA10 ,  4F070BB08 ,  4F070DB01 ,  4F070FB06 ,  4F070FC02 ,  4J026HA09 ,  4J026HA26 ,  4J026HA32 ,  4J026HB11 ,  4J026HB26 ,  4J026HB32 ,  4J026HE01 ,  5F146AA28
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
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