基板処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-547823
特許番号：特許第6741018号
出願日： 2016年10月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】長尺のシート基板を長尺方向に送ると共に、該シート基板上に所定のパターンを順次形成する基板処理装置であって、前記長尺方向と交差した方向に延びる中心線から一定半径の円筒状の外周面を有し、該外周面の一部で前記シート基板を支持する円筒ドラムと、前記円筒ドラムを前記中心線の回りに回転可能に軸支する第1支持部材と、前記円筒ドラムの外周面のうち前記シート基板を支持する部分と対向して配置され、前記シート基板上に前記パターンを形成するパターン形成装置と、前記パターン形成装置を保持する第2支持部材と、前記円筒ドラムと前記パターン形成装置との相対的な配置関係を調整可能に連結する連結機構と、前記円筒ドラムと共に前記中心線の回りに回転し、前記円筒ドラムの回転方向の位置変化を計測する為の指標が、前記中心線が延びる方向に関して前記円筒ドラムの両側の各々に設けられた基準部材と、前記第2支持部材側に設けられて、前記基準部材の各々の指標の検出による前記円筒ドラムの回転方向の計測位置に基づいて、前記中心線の傾きの変化を検出する第1検出装置と、前記第1支持部材側に設けられて、前記基準部材の各々の指標の検出による前記円筒ドラムの回転方向の計測位置に基づいて、前記中心線の傾きの変化を検出する第2検出装置と、を備える基板処理装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ( 200 6.01) , G03F 7/24 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521 , G03F 7/24 H

引用特許：

出願人引用 (5件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-069092 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2014-019198 出願人：株式会社ニコン
処理装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-255693 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (5件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-069092 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2014-019198 出願人：株式会社ニコン
処理装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-255693 出願人：株式会社ニコン

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